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電化學(xué)工作站的系統(tǒng)方法和原理應(yīng)用,你都掌握了嗎?

更新時(shí)間:2020-03-05 點(diǎn)擊量:2795
  電化學(xué)工作站素以模塊化設(shè)計(jì)、皮實(shí)穩(wěn)定、軟件著稱(chēng),是一款通用型的高性能電化學(xué)綜合測(cè)試儀,能滿(mǎn)足用戶(hù)的絕大多數(shù)測(cè)試需要。在這個(gè)基礎(chǔ)之上,它還能夠配置所有的可選模塊和外部設(shè)備,以滿(mǎn)足特殊的測(cè)試要求。
 
  特點(diǎn):
 
  模塊化設(shè)計(jì),可擴(kuò)展能力強(qiáng);
 
  儀器前面板自帶高清LED背光液晶顯示屏,可實(shí)時(shí)顯示電流電位值;
 
  2個(gè)外部信號(hào)輸入/輸出信道,可對(duì)RDE、RRDE、VA663、EQCM等進(jìn)行自動(dòng)控制;
 
  取樣頻率高達(dá)50 kHz, 若配置ADC10M模塊后,取樣頻率將增大到10MHz,即每100ns取一個(gè)點(diǎn);
 
  交流阻抗可以一次性進(jìn)行全范圍測(cè)量而不需要分段測(cè)試。同時(shí),允許對(duì)每一個(gè)頻率設(shè)置不同的波幅。可提供多波形(5或15個(gè)波形)的測(cè)量模式,大大縮短低頻部分的測(cè)試時(shí)間。
 
  支持流體動(dòng)力學(xué)交流阻抗 EHD方法、強(qiáng)度調(diào)制光電流譜IMPS方法和強(qiáng)度調(diào)制光電流IMVS方法。
 
  多達(dá)六種阻抗測(cè)試模式:常規(guī)的單電位下的頻率掃描阻抗測(cè)量方法;電位頻率掃描;恒電位下的時(shí)間頻率掃描;單電流下的頻率掃描;電流頻率掃描;時(shí)間頻率掃描;
 
  基于Microsoft.NET開(kāi)發(fā)的NOVA軟件,除了支持幾乎所有的固化電化學(xué)測(cè)量方法外,還可以讓用戶(hù)自 行設(shè)計(jì)各種測(cè)量條件,從而開(kāi)發(fā)出*的測(cè)量方法,隨心所欲地將自己的想法和需要得到充分實(shí)現(xiàn)。

  電化學(xué)工作站的基本原理及應(yīng)用
 
  1.交流阻抗法
 
  交流阻抗法的主要實(shí)現(xiàn)方法是,控制電化學(xué)系統(tǒng)的電流在小幅度的條件下隨時(shí)間變化,同時(shí)測(cè)量電勢(shì)隨時(shí)間的變化獲取阻抗或?qū)Ъ{的性能,進(jìn)而進(jìn)行電化學(xué)系統(tǒng)的反應(yīng)機(jī)理分析及計(jì)算系統(tǒng)的相關(guān)參數(shù)等。交流阻抗譜可以分為電化學(xué)阻抗譜(EIS)和交流伏安法。EIS探究的是某一極化狀態(tài)下,不同頻率下的電化學(xué)阻抗性能;而交流伏安法是在某一特定頻率下,研究交流電流的振幅和相位隨時(shí)間的變化。
 
  2.穩(wěn)態(tài)測(cè)試:恒電流法及恒電勢(shì)法
 
  所謂的穩(wěn)態(tài),即電化學(xué)參量(電極電勢(shì),電流密度,電極界面狀態(tài)等)變化甚微或基本不變的狀態(tài)。zui常用的穩(wěn)態(tài)測(cè)試方法,當(dāng)然就是恒電流法及恒電勢(shì)法,故名思意,就是給電化學(xué)體系一個(gè)恒定不變的電流或者電極電勢(shì)的條件。
 
  通常我們可以利用恒電位儀或者電化學(xué)工作站來(lái)實(shí)現(xiàn)這種條件。通過(guò)在電化學(xué)工作站簡(jiǎn)單地設(shè)置電流或電勢(shì)以及時(shí)間這幾個(gè)參數(shù),就可以有效地使用這兩種方法啦。該方法用的比較多的地方主要有:活性材料的電化學(xué)沉積以及金屬穩(wěn)態(tài)極化曲線(xiàn)的測(cè)定等等。
 
  3.暫態(tài)測(cè)試:控制電流階躍及控制電勢(shì)階躍法
 
  所謂的暫態(tài),當(dāng)然是相對(duì)于穩(wěn)態(tài)而言的。在一個(gè)穩(wěn)態(tài)向另一個(gè)穩(wěn)態(tài)的轉(zhuǎn)變過(guò)程中,任意一個(gè)電極還未達(dá)到穩(wěn)態(tài)時(shí),都處于暫態(tài)過(guò)程,如雙電層充電過(guò)程,電化學(xué)反應(yīng)過(guò)程以及擴(kuò)散傳質(zhì)過(guò)程等。
 
  zui常見(jiàn)的方法要數(shù)控制電流階躍法以及控制電勢(shì)階躍法這兩種。控制電流階躍法,也叫計(jì)時(shí)電位法,即在某一時(shí)間點(diǎn),電流發(fā)生突變,而在其他時(shí)間段,電流保持相應(yīng)的恒定狀態(tài)。
 
  同理,控制電勢(shì)階躍法也就是計(jì)時(shí)電流法,即在某一時(shí)間點(diǎn),電勢(shì)發(fā)生突變,而在其他時(shí)間段,電勢(shì)保持相應(yīng)的恒定狀態(tài)。
 
  利用這種暫態(tài)的控制方法,一般可以探究一些電化學(xué)變化過(guò)程的性質(zhì),如能源存儲(chǔ)設(shè)備充電過(guò)程的快慢,界面的吸附或擴(kuò)散作用的判斷等。計(jì)時(shí)電流法還可以用以探究電致變色材料變色性能的優(yōu)劣。
 
  4.伏安法:線(xiàn)性伏安法,循環(huán)伏安法
 
  伏安法應(yīng)該算是電化學(xué)測(cè)試中zui為常用的方法,因?yàn)殡娏鳌㈦妷壕3謩?dòng)態(tài)的過(guò)程,才是zui常見(jiàn)的電化學(xué)反應(yīng)過(guò)程。一般而言,伏安法主要有線(xiàn)性伏安法以及循環(huán)伏安法,兩者的區(qū)別在于,線(xiàn)性伏安法“有去無(wú)回”,而循環(huán)伏安法“從哪里出發(fā)就回哪去”。線(xiàn)性伏安法即在一定的電壓變化速率下,觀察電流相應(yīng)的響應(yīng)狀態(tài)。同理,循環(huán)伏安法也是一樣,只不過(guò)電壓的變化是循環(huán)的,從起點(diǎn)到終點(diǎn)再回到起點(diǎn)。
 
  線(xiàn)性伏安法使用的領(lǐng)域較廣,主要包括太陽(yáng)能電池光電性能的測(cè)試,燃料電池等氧還原曲線(xiàn)的測(cè)試以及電催化中催化曲線(xiàn)的測(cè)試等。而循環(huán)伏安法,主要用以探究超級(jí)電容器的儲(chǔ)能大小及電容行為、材料的氧化還原特性等等。
 
  可提供的電化學(xué)方法:
 
  1、DHZ-Ⅳ交流阻抗電化學(xué)系統(tǒng): 可進(jìn)行階梯伏安法(SCV)、塔菲爾曲線(xiàn)(TAFEL)、交流阻抗(IMP)、阻抗-時(shí)間測(cè)量(IMPT)、阻抗-電勢(shì)測(cè)量(IMPE)等近30余種方法。
 
  2、DHZ-V雙恒電位儀:在DHZ-IV基礎(chǔ)上另加一路恒電位體系。
 
  3、DHZ-I通用電化學(xué)系統(tǒng):
 
  主要用于廣泛的電化學(xué)的實(shí)驗(yàn)與研究:循環(huán)伏安法(CV)、線(xiàn)性?huà)呙璺卜?LSV)、計(jì)時(shí)電流法(CA)、計(jì)時(shí)電量法(CC)、電流-時(shí)間曲線(xiàn)(i-t)、電位-時(shí)間曲線(xiàn)(OCPT)等系統(tǒng)軟件并提供相關(guān)模擬系統(tǒng)。
 
  4、DHZ-Ⅲ大電流通用電化學(xué)系統(tǒng):
 
  在DHZ-I基礎(chǔ)上,將恒電流輸出提高到1A,槽壓提高至32V。
 
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